设备名称：等离子清洗仪Plasma Cleaner
设备编号：暂无
型号：Tergeo-EM
厂家：PIE
放置地点：清华大学理科D119房间

收费项目名称
等离子清洗 校外：150元/次、校内：150元/次
注：详询工程师。

1、控制系统
1）操作界面：7英寸电阻触摸屏操作界面，支持多种工作方式。
2）程序控制：可编程，总共有20个程序，每个程序有3个清洁步骤
2、反应腔体
1）腔体材质：圆柱形石英玻璃舱。
2）腔体尺寸：内径110毫米，外径120毫米，深度280毫米，壁厚：5毫米。
3）前观测窗：前方开口，5毫米厚石英玻璃可视窗口，可观测内腔等离子状态，并带有防真空泄漏和避免高压的联锁装置，有效保护操作的安全性；
3、射频电源
1）射频频率：13.56MHz
2）射频功率：标配0~75W；可选配0~150W。从0瓦到150瓦之间以1瓦间距连续可调，自动阻抗匹配。
3）射频输出可以工作在脉冲方式，脉冲比可以从1/255调到255/255（连续输出）。
4、等离子源
1）等离子强度探测器实时测量等离子源强度。
2）电阻耦合电离方式。
3）外置电极设计，高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染。
5、气体控制
1）气路控制：标配一路MFC；可选配三路MFC；
2）质量流量计可以在0~100sccm之间控制气体流量；
3）一路(Venting and purging)气体入口用来快速给样品室放气和冲走残余处理气体。
4）自动放气流程控制可以保护真空泵不受影响。
5）高性能气压计可以测量1e-4 Torr到大气压之间的气压。
6）6mm气体接口。
6、真空系统
1）KF25法兰接口用来连接真空泵。
2）真空要求：抽速：>1.7m3/h；
3）最低气压：< ="200mTorr."

1. 系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化
2. 13.56MHz高频射频发生器
3. 7英寸触摸屏控制界面，全自动操作
4. 标配75W版本，可选150W版本
5. 标配2路气体输入，可选第三路气体输入
6. 可选与FEI、JEOL、HITACHI等TEM样品杆配套的适配器
7. AC输入：通用(110~230V, 50/60Hz)
8.特有的双清洗模式（immersion和downstream）能够处理各种不同的样品。

如石墨烯、碳纳米管、类金刚石碳膜以及多孔碳支持膜铜网上的TEM样品。石英样品托板上的孔洞可以安装标准SEM样品托。它可以处理各种各样的材质，无论是金属、半导体、氧化物，还是高分子材料，在完成清洗去污的同时，还可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的润湿性能、改善膜的黏着力等，这在许多应用中都是非常重要的。