杨立平

能谱分析平台工程师

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2007硕士毕业于北京化工大学材料学院。2013年加入清华大学分析中心，负责材料表面与结构测试。负责仪器有：扫描俄歇系统（AES, PHI700）、X射线光电子能谱（XPS, ESCALAB Xi+）。

参与的项目

(1) 国家标准制修订专项（国质检标联[2016]211号），国家质检局国家标准委，2015-08至2018-09，15万，已结题，参与

(2) 新型功能材料的理化性能分析表达方法及应用，科技部创新方法工作专项（2012IM030500），2012-10至2015-09，273万，已结题，参与

发表文章

(1) 杨立平*，严楷，赵园园，曹江利，氮气气氛下热处理温度对HfO2薄膜基底界面结构的影响，陶瓷学报，2016, 31(1): 309-314.

(2) Kai Yan, Wenqing Yao*, Liping Yang, Jiangli Cao*, Yuanyuan Zhao, Lixia Zhao, Yongfa Zhu. The formation of heterointerface defects in Au/Cu films on Si substrates under direct current in a vacuum ultraviolet environment. Physical Chemistry Chemical Physics, 2016, 18, 4019-4025.

(3) Kai Yan, Wenqing Yao*, Yuanyuan Zhao, Liping Yang, Jiangli Cao*, Yongfa Zhu. Oxygen vacancy induced structure change and interface reaction in HfO2 films on native SiO2/Si substrate. Applied Surface Science, 2016, 390, 260265.

研究成果与获奖

(1) 杨立平（8/10）；光催化材料表界面修饰特殊性质的分析方法及应用，中国分析测试协会，科学技术奖，一等奖，2019 （姚文清，朱永法，王舰，宗瑞隆，李展平，严楷，吴焱学，杨立平，段建霞，马超）

(2) 杨立平（2/9）；GB/T 36504-2018 印刷线路板表面污染物分析-俄歇电子能谱，中国国家标准化管理委员会，国家标准，2018 （姚文清，杨立平，腾飞，徐同广，严楷，李展平，王雅君，陈圣，朱永法）

(3) 杨立平（3/9）；GB/T 36533-2018 硅酸盐中微颗粒铁的化学态测定俄歇电子能谱法，中国国家标准化管理委员会，国家标准，2018 （姚文清，吴焱学，杨立平，李雄耀，徐同广，李展平，王雅君，欧阳自远，朱永法）