2026年4月7日，由分析中心能谱分析平台主办的“赛默飞Talos F200最新应用”技术讲座在何添楼406会议室举办。本次讲座特邀赛默飞高级业务拓展经理杨光担任主讲人，吸引了材料、化学等多领域科研人员及师生到场参与。

杨光围绕赛默飞新一代Talos F200透射电镜的核心技术与应用进行了深度分享。他详细介绍了MicroED微晶电子衍射技术在小分子及纳米晶结构解析中的独特优势，人工智能（AI）在电镜自动化采样、图像处理与数据分析中的前沿应用，并重点解读了赛默飞创新的iDPC成像技术在轻元素及低剂量成像方面的技术突破。结合材料与化学领域的典型案例，他展示了Talos F200在纳米结构表征、催化研究及常规分析中的多场景应用，以及高效、精准的表征解决方案。杨光拥有十余年球差校正透射电镜操作使用经验，现场解答了参会人员关于电镜技术应用及科研表征的难题，交流氛围热烈。本次讲座将助力大家快速掌握前沿表征技术，推动其在相关科研工作中的应用。

图1 赛默飞Talos F200最新应用技术讲座现场