设备名称：高精密镀膜刻蚀仪High precision coating etcher
设备编号：20037907
型号：PECS II (685)
厂家：GATAN
放置地点：理科楼D120

收费项目名称
样品制备 校外：150元/样、校内：150元/样

可容纳直径32mm的大样品
集抛光、刻蚀或镀膜于一身，样品刻蚀后立即镀膜，排除样品污染
离子枪电压、束流、刻蚀时间及镀膜厚度可精确控制，实验重复性好
具有平面和截面两种加工模式，满足不同应用需求
WhisperlokTM 专利技术，30s内实现样品快速更换，提高工作效能
低能聚焦离子枪保证低能量下工作效率，尤其适合加工对表面损伤敏感的样品，对EBSD和CL类等对表面要求苛刻的样品效果尤佳
改进低能抛光效果，减少非晶层；提供更高的能量，以提高抛光速度
保护样品避免离子束热损伤，消除可能的假象
快速简便地访问所有的控制参数
如选配IPREP，更可实现3D EBSD或样品三维重构
*实时监控加工过程将存储的光学图像与其他分析系统的数据做关联分析
溅射靶材至样品表面，防止样品在SEM/FIB中发生荷电

对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。PECSII是一款完全独立、结构紧凑的台式设备。采用两个宽束氩离子源对样品表面进行抛光，去除损伤层，从而得到高质量样品，用于在SEM，光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC或其它分析。

适应大多数材料类型，对大面积、表面或辐照及能量敏感样品尤佳
钢铁、地质、油页岩、锂离子电池、光伏材料、薄膜、半导体、EBSD、生物材料等